10月14日，湾区半导体产业生态博览会（深圳湾芯展）上，OLED巨头UDC全资子公司UVJC正式推出首款商用NovaJet蒸气喷射印刷（UVJP）系统。这套由OVJP有机蒸汽喷墨技术延伸而来的干式薄膜沉积设备，主打无溶剂、无掩膜、无需基板加热三大特性，跳出传统光刻、溶液涂布、热蒸镀的工艺框架，面向半导体先进封装、传感器、钙钛矿光伏等前沿赛道提供全新的材料图案化方案，目前已经开放客户订购。

工艺底层逻辑：干式蒸气喷射，兼顾蒸镀品质与打印柔性

NovaJet依托UVJC自研UVJP蒸气喷射印刷平台，技术源头来自UDC成熟的OLED有机蒸汽喷墨工艺。和溶液型喷墨打印不同，它先将功能材料气化，再通过定向气流把气态前驱体精准喷射、沉积在基板指定区域，属于纯干式增材沉积路线。

该路线最大的差异化优势，就是全程不使用有机溶剂，省去溶剂挥发、烘烤环节；不需要光刻掩膜版，数字化直接图案化；同时基板全程无需高温加热，对硅片、玻璃、柔性聚合物、热敏功能层都友好，解决很多钙钛矿、有机光电器件受热失效、溶剂侵蚀的痛点。单台设备可在一个工序内实现多材料、梯度组分共沉积，适合新材料配方快速迭代验证。

三大核心落地场景：先进封装、传感器、钙钛矿光伏

NovaJet定位为研发验证型商用平台，核心目标是解决很多前沿器件“实验室做得出来，工艺转产难”的卡点，覆盖三大高价值方向。

在半导体先进封装领域，可用于再布线层、隔离层、功能介质薄膜的局部沉积，相比传统光刻流程工序更少、耗材更低，适配异构集成、Chiplet等新一代封装架构；

面向各类传感器，适合在MEMS、光电传感器表面制备功能敏感膜，精准控制膜厚与图形，适配气体传感、生物传感器件开发；

在钙钛矿光伏方向，无溶剂、低温的特性完美匹配钙钛矿材料的热敏短板，用来制备传输层、钝化层，规避溶液工艺带来的界面损伤，为钙钛矿叠层电池提供一条新的成膜路径。

除以上赛道外，这套系统也可拓展至生物医药、固态电解质、表面改性等材料研发场景，基板兼容硅、金属、高分子、玻璃等多种材质。

赛道启示：从OLED向外扩散，低温无掩膜沉积进入商业化验证期

UVJC是UDC专门为UVJP技术产业化设立的主体，总部与研发产线布局新加坡，本次湾芯展也是UVJC在国内行业展会的首次公开亮相。NovaJet现阶段主打研发机台，供科研机构、材料企业、器件厂商做工艺试跑；一旦工艺方案在NovaJet上验证成熟，UVJC还可配套提供卷对卷、大面积量产型定制系统，完成从样品验证到产线放大的衔接。

过去，无掩膜低温薄膜沉积大多停留在实验室原型。NovaJet的发布，意味着源自显示行业的干式蒸气打印技术正式向外跨赛道输出。在先进封装、钙钛矿、MEMS传感器都追求低损伤、少光刻工序的大趋势下，这类干式、数字化沉积工艺，有望成为薄膜制造的重要补充路线，和光刻、溶液涂布、真空蒸镀形成差异化竞争。

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